中企突破EUV光刻机关键技术,ASML态度逐渐转变

  嘴上说不需要,身体却很诚实!面对中国庞大的市场,欧美巨头们低下了头颅。

  前段时间,佩老太去了一趟台湾省,引发了巨大的震动。作为美国科技巨头的苹果,立即要求台湾省供应商出货到大陆时,包装上必须标注“中国台湾”字样。这一动作被认为是对中国大陆市场的看重,或者是担心自身的利益受损。

  在2021年,苹果登顶第一,成为中国智能手机市场的老大。中国也成为了苹果全球增长最快的市场,为苹果的业绩大涨做出了贡献。所以,对于这样一个巨大市场,苹果自然是非常重视。

  其实,不少欧美企业一边是舍不得中国市场,一边却态度傲慢。比如光刻机巨头ASML,至今没有把最先进的EUV光刻机卖给我们。在我们准备自主研发,全面攻克技术时,ASML又冷嘲热讽说:“就算把图纸给我们,也造不出尖端的光刻机。”

  不可否认,在全球光刻机领域,ASML是绝对的王者,可以说是一家独大。数据显示,在2020年,ASML拿下了63%的全球订单,高居第一,是第二名佳能的2倍多。而如果以销售额来计算,ASML的市场份额更是高达91%,佳能和尼康总共才9%。

  这主要是归功于2010年ASML开始出货的EUV光刻机,这是行业目前最先进的光刻机,价格更加昂贵。最关键的是到目前为止,只有ASML能够生产,被它垄断了。

  虽然制造一台光刻机的难度非常大,需要很多的技术和十几万的零部件,但对于ASML来说,它自身技术也没多少,完全也是一个组装厂。要不是当年台积电、三星等入股,通过技术加持,ASML也不见得能有今日的成就。

  因此,当我国大力发展芯片产业,并致力于技术突破时,ASML又改变了态度,没有往日的傲气。

  前段时间,有消息说美国正在考虑让ASML对中国大陆的出货限制扩大到DUV光刻机。对于这个说法,ASML总裁就直言中国已经成为全球半导体制造业的重要参与者,这有点为中国说话的意思。

  但实际上,ASML总裁的态度之所以会出现大转弯,原因无非两点:利益和技术。

  这几年,我国芯片需求非常大,已经成为了全球最大的芯片消费市场。随着美国的限制打压,我国企业纷纷开启“国产替代”,用国内的芯片来降低国外的依赖。这意味着我国将大量生产国产芯片,如此一来,对光刻机的需求就很大。

  据ASML公布的财报显示,2022年第一季度来自中国大陆的营收占比在ASML全球占比达到34%,超过了三分之一,大陆市场的重要性不言而喻。据了解,ASML已经加大投资,扩招团队。这么重要的一个市场,ASML自然是不敢轻视。

  当然,除了利益驱使外,还有一个很重要的点,那就是技术。虽然我们目前还造不出更先进的光刻机,但对于光刻机的各项技术,我们还是可以逐一突破的。

  一台光刻机的核心技术无非就是光源、镜头和双工作台,目前ASML光刻机的光源技术来自美国企业,而镜头来自德国蔡司,这确实是全球最先进的镜头公司,应用于很多领域,我国暂时难以突破。

  目前,国内首台高能同步辐射光源科研设备已经落地,而双工作台也在加速研发,相信用不了多久就能突破,届时我们的光刻机都可以用上。

  除了这些外,我国还在光刻机的不少关键技术上实现了突破。据了解,前段时间,南京大学陆海和张荣教授团队研发出了宽禁带半导体pn结型EUV探测器,取得了世界领先。

  探测器是EUV光刻机运行中非常关键的一个零部件,之前采用的都是Si基紫外探测器。如今我国研发出的这款探测器,效率更高,抗辐射能力更强,总之比之前的先进很多,可以说是光刻机领域的一个重大突破。

  就在近日,我国又突破了一项关键技术。由上海传芯半导体公司研发出的“曝光成像结构、反射式光掩模版组及投影式光刻机”,已经获得了专利。这项技术可以提高EUV光刻机的分辨率和对比度,再次让其工艺获得提升。

  毫无疑问,随着我国持续攻克光刻机的关键技术,明显让ASML公司着急了。因为我们的技术突破越多,ASML对我们的依赖越大。而且ASML也担心,我们将可能制造出先进光刻机,和它产生竞争。

  因此,也能理解为什么ASML态度发生大转变,也难怪会对我们大规模出货,在今年一季度给我们出口了23台光刻机。

  没有什么是一成不变的,当年ASML能够击败佳能、尼康等日本企业,未来也有企业能够击败ASML。所以,ASML为了利益,就加大出口,想占领更多市场份额。

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